光刻，作为集成电路(IC或芯片)制造的核心工艺之一，其本质是通过光掩膜和光刻胶在基板上精确地复制电路图案。在此过程中，基板会被涂覆上硅二氧化层绝缘层和光刻胶。光刻胶的特性是在受到紫外光照射后，能够轻易地被显影剂溶解。经过这一步骤及随后的腐蚀处理，电路图案便永久地留在基板上。

　　无尘室，或称洁净室，是一个经过特殊设计以排除空气中微尘粒子等污染物的环境。这种高度洁净的环境对于众多高精度制造产业至关重要，尤其是半导体制造业。在这一领域，对室内的温湿度和洁净度要求极为严格，因为这些因素会直接影响到制程的质量和效率。

　　在光刻区，为何偏偏选择黄光呢?这背后有着深刻的科学原理。光刻胶的感光范围通常位于200nm至500nm之间，这意味着只有在这个特定波长范围内的光线才能引发光刻胶的化学反应。而在这个范围内，紫外线、紫光和蓝光由于可能对制程产生不利影响，因此在光刻区是严格禁止使用的。

　　黄光之所以受到青睐，首先是因为其波长较长，不易引发光刻胶的化学反应，从而保证了制程的稳定性。其次，黄光相比其他颜色的光更为柔和，不易在设备或晶圆表面产生刺眼的反射或眩光，这对于保护操作人员的视力极为重要。此外，黄光还能确保光刻过程中使用的颜色敏感的化学品或其他材料的颜色不受其他光源的干扰或失真。

　　特别值得一提的是，专为光刻设计的无紫外线T8 1.2m黄光LED灯管，它不仅可以直接替换传统的T8荧光灯管，而且具备出色的紫外线保护功能，能有效阻挡500纳米以下的紫外线波长。这种灯管还拥有稳定的质量、过热、过流和短路保护等多重安全特性，以及长达50,000小时的使用寿命。选择这样的灯管，不仅确保了光刻制程的稳定性和效率，也为操作人员提供了一个更为舒适和安全的工作环境。